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这两种晶型的差异，使得碳化硅材料在高温、化学腐蚀环境下兼具稳定性和可加工性。
熔点高达 2700°C，使其在高温环境下保持优异的性能，不易分解或变形。
低热膨胀系数（4.0×10⁻⁶/K），保证其在温度剧变条件下的抗热冲击能力，适合高温气体分离等应用。
高硬度：莫氏硬度约为 9.2，仅次于金刚石。这种特性赋予碳化硅极高的耐磨性能，在颗粒物高速流动环境中具有卓越表现。
碳化硅的化学惰性使其在强酸（如硫酸、盐酸）和强碱（如氢氧化钠）环境中保持稳定。同时，它还耐有机溶剂腐蚀，不受一般化学介质的影响。这些特性使其特别适用于复杂介质的分离操作。
微滤膜（MF）：孔径范围为 0.1-10 μm，主要截留悬浮颗粒、细菌、油滴等，广泛应用于水处理和食品行业。
超滤膜（UF）：孔径范围为 2-100 nm，可有效分离大分子有机物，如蛋白质、胶体和病毒。
纳滤膜（NF）：孔径小于 2 nm，主要用于溶解性盐类、金属离子和小分子有机物的分离。
支撑体层：通常由大孔径材料制成，如多孔碳化硅或其他陶瓷基底，提供高机械强度和承载能力。
过渡层：位于支撑体和分离层之间，用于消除孔径梯度变化引起的应力，提高膜层整体的结合力和均匀性。
分离层：最外层为分离功能层，孔径分布精确，负责核心的分离任务，通常厚度控制在 5-20 μm 之间，以确保高通量和高选择性。
碳化硅陶瓷膜的制备涉及复杂的工艺流程，其核心在于孔隙率和孔径分布的精准控制。这一过程需要确保材料在高温烧结或沉积过程中，形成连续且均匀的膜层，同时保留适当的孔结构以实现高效分离性能。制备技术的优劣直接影响膜的孔径范围、机械性能和耐化学腐蚀性。
碳化硅陶瓷膜在高达 1000°C 的高温下保持结构稳定，适用于高温烟气脱硫脱硝和高温化工反应的气体净化。其优异的热冲击性能使其在快速温度变化中不易开裂。
碳化硅陶瓷膜在强酸（如 pH 0 的硫酸）和强碱（如 pH 14 的氢氧化钠）环境下稳定运行。这使其在化工和能源工业中表现出色，尤其是在恶劣化学环境下的分离任务。
